PS
為一種光反應(yīng)性材料,即所謂的光阻材料,可依其對光反為一種光反應(yīng)性材料,即所謂的光阻材料,可依其對光反應(yīng)機(jī)構(gòu)不同,分為正型與負(fù)型光阻,均可適用,分為正型與負(fù)型光阻,均可適用於Photo Spacer利用光微影制程(Photo lithography porcess)方法,直接將光阻材料涂布在玻璃基板上,經(jīng)過曝光、顯影、烘烤等步驟得到所需厚度的基板間隙控制。
BM
BM(black matrix),中文名黑色矩陣和RGB,PS都是相同的黃光工藝,在Color Filer基板,涂布在R/G/B之間的黑色物質(zhì)
BM的作用
1. 隔絕畫素電極和電極間的Back light的滲透,防止鄰接的Color Filer之間的混色。
2. 為了隔絕TFT光的照射,在Color Filter基板上設(shè)置遮光膜Dark的狀態(tài)下隔絕畫素電極周邊的光的泄露,增加對比度
PR
是通過涂布機(jī)均勻涂布在ITO玻璃表面上的一層感光光阻材料。
PR又稱光刻膠,由感光樹脂、感光劑和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液體。感光樹脂經(jīng)光照后,在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應(yīng),使得這種材料的物理性能,特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化。經(jīng)適當(dāng)?shù)娜軇┨幚?,溶去可溶性部分,得到所需圖像。
光阻種類: 光阻分為正光阻及負(fù)光阻兩種。
1.正光阻: 光阻本身難溶于顯影液,曝光后解離成小分子,形成容易溶于顯影液的結(jié)構(gòu)。
2.負(fù)光阻: 曝光后形成不容易溶于顯影液的結(jié)構(gòu)。