1.清洗機(jī)    

去除玻璃表面的臟污、油污等，使玻璃表面清潔，以保證后續(xù)光阻的涂布效果及結(jié)合力 主要控制參數(shù)    

清洗液濃度、清洗速度、脫脂毛刷壓入量等    

2.涂膠機(jī)    

在玻璃表面均勻的涂上一層感光物質(zhì)-光阻    

光阻：光阻是利用材料光化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行圖形轉(zhuǎn)移的媒體，有正性光阻和負(fù)性光阻之分。    

正性光阻是照到光的部分會(huì)溶于光阻顯影液，沒(méi)有照到的部分則不會(huì)溶于光阻顯影液。    

負(fù)性光阻則剛好相反。    

主要控制參數(shù)    

涂布速度、抽泵頻率、抽泵強(qiáng)度    

主要參考參數(shù)    

膜層厚度、膜層均勻性    

3.soft bake    

將光阻中的大部分有機(jī)溶劑烘烤，使原本的液態(tài)的光阻固化     

主要控制參數(shù)    

烘烤時(shí)間、烘烤溫度、烘烤熱板pin高度    

主要品質(zhì)異常    

玻璃受熱不均，使光阻局部過(guò)烤或烘烤不足，造成后續(xù)的顯影不凈或顯影過(guò)顯    

4.曝光    

黃光制程中的關(guān)鍵所在，通過(guò)曝光使受到光照部分光阻溶解于顯影液，從而達(dá)到轉(zhuǎn)移光罩上圖形的過(guò)程    

主要控制參數(shù)    

曝光能量、曝光GAP、曝光溫度    

主要品質(zhì)異常    

曝光偏移，固定光阻殘留異常，過(guò)爆    

5.顯影    

將（正性）光阻中的被曝光的那部分光阻溶解快速顯影液中（負(fù)性光阻正好與之相反，未曝光的部分溶于顯影液中），    

未曝光的那部分光阻溶解緩慢，從而通過(guò)控制顯影時(shí)間，可以顯現(xiàn)出光罩上的圖形    

主要控制參數(shù)    

顯影時(shí)間、顯影液濃度、顯影溫度、顯影噴壓    

主要品質(zhì)異常    

顯影不凈、顯影過(guò)顯、光阻回粘    

6.post bake    

也叫Hard bake。使經(jīng)顯影后的光阻固化，從而使其圖形穩(wěn)定    

主要控制參數(shù)    

烘烤時(shí)間、烘烤溫度    

7.etching    

用強(qiáng)酸將玻璃種未受光阻保護(hù)的那部分ITO腐蝕，留下所需圖形    

主要控制參數(shù)    

蝕刻液濃度、蝕刻液溫度、蝕刻時(shí)間、噴淋壓力    

主要品質(zhì)異常    

蝕刻不凈、ITO過(guò)蝕、以及涂布異常而引起的蝕刻異常    

8.stripper    

有機(jī)溶液將玻璃上面的光阻除去    

主要控制參數(shù)    

剝膜時(shí)間、剝膜液濃度    

主要參考參數(shù)    

剝膜不凈、光阻回粘、剝膜藥液殘留